大面积高通量脉冲激光沉积系统

型号：定制
制造商：矩阵多元科技
存放地点：550栋 110

主要功能及特色

大面积高通量脉冲激光沉积系统，是行业领先定制化沉积系统。该系统首次配备了多维度激光光路自动调节系统，结合定制化的激光光路，能够实现高均匀、高稳定的激光路径扫描，最大化地实现激光羽辉精细调控，进而制备出最大面积可达3英寸的原子级平整样品。多靶台和XY双轴高精细掩膜模块，使得其能够成分梯度、厚度梯度、工艺梯度等高通量样品。配备的反射高能电子衍射仪能够动态监测生长动力学过程，为制备原子级可控样品提供助力。

主要技术指标

1. 基片最大尺寸3英寸，靶台最大尺寸2英寸、靶台位3个或1英寸6靶台位；
2. 加热方式辐射式加热，最高温度1000℃，最大升温速率10℃/min；
3. 极限背景真空度5×10^-7Pa；
4. 靶台运动方式自转+公转，可实现XY平面内线性扫描；
5. 激光聚焦镜XY平面内编程化运动。

主要附件及配置

1. 电阻式加热器，最高温度900℃，尺寸1英寸，升温速率最高为25℃/min；
2. 1、2、3英寸模块化基片支架；
3. 1和2英寸靶台支架各1套；
4. 反射高能电子衍射仪，实时监测生长动力学过程；
5. 普发公司80泵组3套，提供快速的（＜5 min）进样室取放样操作。

用户须知

需经过培训获得操作资格后才能使用，或由已培训的人员代为操作