无掩膜激光直写光刻系统

型号：Picomaster ATE-100
制造商：Raith
存放地点：550栋203

主要功能及特色

PicoMaster ATE-100无掩膜激光直写系统提供一种高精度无掩膜激光直写技术，主要用于功能器件和集成电路等微纳米结构的图案化制造。其主要原理是通过直接激光曝光技术将复杂的图案精确写入光刻胶层，省去了传统掩膜版制备微纳米图案的步骤。该系统支持将设计文件直接导入图案，其曝光功能包括无掩膜4095级灰度曝光、多层套刻、矢量曝光、免绘图曝光等。在微电子器件、光子学元件、微流控芯片等领域实现高分辨率的图案制作。该系统采用405nm波长激光器可实现包括300nm、600nm、900nm三种分辨率，多种基板自动对焦技术采用曝光功率可达3mW，灰度曝光可达4095级，多重套刻对准精度小于500nm，可直接通过CCD实时监测样品曝光过程和曝光质量。无掩膜激光直写技术在科研实验和小批量生产中具有广泛应用，可用于快速原型制造和新材料的开发。

PicoMaster ATE-100的特色在于其较高的分辨率和图案的多样性和灵活性。该系统采用先进激光束刻蚀技术，能够实现亚微米级的图案精度，适用于各种复杂图形的制作。无掩膜设计不仅降低了成本还缩短了制造周期，特别适合快速迭代和定制化生产。此外该系统内置了易于操作的软件界面，用户可以轻松调整曝光参数和路径规划，满足多种材料和工艺的需求。

主要技术指标

1. 使用405nm波长激光光源，可实现多种光刻精度（300nm、600nm、900nm），且软件控制自动切换；
2. 光刻最小分辨率300nm，线宽均匀性小于50nm，边缘粗糙度小于60nm；
3. 可扫描基板尺寸最小5×5mm，最大125mm×125mm，最大曝光尺寸110mm×110mm，基板厚度可达11mm；
4. 使用625nm红光进行自动对焦，在光刻时可实时对焦；
5. 支持多层套刻，对准精度不大于500nm；
6. 支持4095阶灰度曝光；
7. 可利用对位系统相机实现指定区域扫描，通过扫描结果观察样品表面，在扫描区域内可实现精准特定图形曝光；
8. 可进行矢量曝光。

用户须知

需经过培训获得操作资格后才能使用，或由已培训的人员代为操作

设备预约链接：