磁控溅射镀膜系统

发布日期：2024-08-26

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型号：HSP2-5A
制造商：上海夯业
存放地点：571栋哲生堂-109

 

主要功能及特色

HSP2-5A型磁控溅射镀膜机主要用于纳米级单层及多层功能膜、硬质膜、金属膜、半导体膜、介质膜等新型薄膜材料的制备。与TSST脉冲激光沉积（PLD160620）系统共用一Loadlock腔，能在原PLD系统和磁控溅射镀膜机系统之间实现真空环境下的样品（基底）传输。该主腔体由不锈钢制造，全部内部焊接，电抛光处理。所有接口为CF法兰。配700升涡轮分子泵，以节流阀与制备室连接。配离子规测量极限真空，薄膜规测量工作真空，电阻规测量粗真空。配观察窗及挡板，用于观看腔室内部情况。有氮气和氩气、氧气充入口。静态极限真空≤2x10-9Torr,加热到500℃时，真空仍可保持≤4x10-8Torr。

 

主要技术指标

  1. 具备 5 个 2英寸靶的磁控溅射镀膜机系统
  2. 与原有的 TSST脉冲激光沉积（PLD160620）系统共用一 Loadlock，能在原PLD系统和磁控溅射镀膜机系统之间实现真空环境下的样品（基底）传输
  3. 主腔室真空能达到2x10-9Torr，用不锈钢材料制作，全部内焊：DN350X350,不锈钢材质，直径约为350mm;整体漏率≤1E-10Pa.m3/s;充分烘烤后，静态极限真空≤5x10-9Torr;从大气开始抽气，在2个小时之内腔室真空度达到10-7Torr范围
  4. 5个2英寸溅射靶枪（阴极）：强磁场2台（可使用0.06英寸厚Fe或者C0靶），标准磁场3台（可使用0.25英寸厚非磁性靶）；靶表面通气；电源接头为N型接头，水冷管外径1/4英寸；
  5. 500W DC 电源：输出显示精度为实际输出2%或者最大输出功率的 0.2%以内；
  6. 600W RF 电源：适配器以及相应的电缆， 13.56MHZ（+/- 0.005%）；
  7. 分子泵抽速为700升/秒：前级泵抽速为3升/秒：离子规量程可到1.5x10-11Torr,1台；工作范围内精度优于测量值的30%:薄膜规量程0.01-100Pa,1台；精度优于测量值的0.2%；电阻规，1台；量程约1E5Pa到1E-1Pa,精度优于测量值的30%；
  8. 可以制备具有垂直磁各向异性的玻璃/CrRu/FePt (L1相）多层膜：10mm*10mm区域内膜厚均匀性优于5%。

 

主要附件及配置

  1. 主腔室真空可达2x10-9Torr，不锈钢材料制作，全部内焊：DN350X350,不锈钢材质，直径约为350mm;
  2. 5个2英寸溅射靶枪（阴极）：强磁场2台（可使用0.06英寸厚Fe或者C0靶），标准磁场3台（可使用0.25英寸厚非磁性靶）；
  3. 分子泵1台，抽速为700升/秒：前级泵1台，千泵抽速为3升/秒；
  4. 离子规1台，量程可到1.5x10-11Torr，工作范围内精度优于测量值的30%薄膜规1台，量程0.01-100Pa，精度优于测量值的0.2%；电阻规1台；量程约1E5Pa到1E-1Pa,精度优于测量值的30%；
  5. 节流阀1台：插板阀1台；角阀1台；磁力杆1台；
  6. 基地加热器，基底温度达到750℃，PD调节，温控精度土1℃，基底加热器可以沿腔室垂直中心线上下移动，能绕腔室垂直中心线以往返转动。

 

用户须知

需经过培训获得操作资格后才能使用，或由已培训的人员代为操作

 

设备预约链接：https://sharing.sysu.edu.cn/home/#/orderDetail?id=2464 

设备预约二维码：

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